企業概況

       湖南普照信息材料有限公司是中國國內目前唯一一家高水平掩膜基版材料（勻膠鉻版）研發、生產與銷售的專業廠家。   
       公司創立于2003年8月，位于長沙國家高新區麓楓路40號，注冊資本金10596.53萬元，由湖南電子信息產業集團有限公司全資控股。
       公司從國外引進掩膜基版生產各項工藝設備及檢測儀器，其中的玻璃拋光、基板清洗、磁控濺射鍍膜及勻膠等關鍵技術均由公司組織技術人員進行研究開發、設計并實施，至今已能夠生產2.5"×2.5"－700mm×800mm各種規格100多個品種的掩膜基版。
       掩膜基版是當前及未來微細加工光掩膜制作的主流感光材料（相當于照相用的感光膠卷）。它是在平整的、高光潔度的玻璃基版上通過直流磁控濺射沉積上氮化鉻-氮氧化鉻薄膜而形成鉻膜基版，再在其上涂敷一層光致抗蝕劑（又稱光刻膠）或電子束抗蝕劑制成掩膜基版。掩膜基版具有高感光靈敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨、易清洗、使用壽命長等優點。當前被廣泛應用于IC、LCD、PCB、PDP等產品掩膜版的制作，作為圖形轉換的必須載體，掩膜基版的前景相當廣闊。
       公司掩膜基版項目投產以前，國內市場被國外廠商壟斷，市場的需求主要依賴進口，尤其是大版，國內幾乎不能供應，小版雖然能供應一部分，也都是低檔品。國外廠商利用其壟斷地位，取得對市場的定價權，掩膜基版售價一直居高不下，對國內集成電路和平板顯示行業的發展帶來了極大的負面影響。
       公司在國外技術封鎖的巨大壓力下，通過自主研發，不斷克服技術和品質問題，掩膜基版項目量產后，極大的緩解了國內掩膜廠商對掩膜基版的需求，打破了國外廠商對行業的壟斷，填補國內空白，各種規格掩膜基版的市場價格大幅下降，并出口韓國、日本、美國、德國、臺灣、香港等國家和地區，取得了良好的社會效益，2008年10月公司掩膜基版項目被國家發改委授予“國家高技術產業化十年成就獎”，全國獲此獎項的僅100個高技術項目，充分肯定了公司在行業內的作用和地位。